核心职责
1、主导半导体、显示领域刻蚀剂的研发、配方优化及工艺改进，攻克精细图案蚀刻、低残渣、低侧蚀等技术痛点；

2、负责刻蚀剂产品从实验室研发、中试放大到量产落地的全流程推进，制定标准化生产工艺与质量控制体系；
3、对接国内主流显示企业（重点覆盖京东方 B10 等高世代产线），开展产品测试、技术交流与交付落地工作，快速响应客户端技术需求与问题反馈；

4、跟踪刻蚀剂行业技术趋势与竞品动态，结合客户需求迭代产品性能，主导专利申请与技术创新；
5、协同生产、品质、销售团队，保障产品量产稳定性与客户导入效率，推动技术成果商业化转化。
三、任职要求
1. 基本条件
韩国籍，化学工程、应用化学等相关专业硕士及以上学历；
具备 10 年以上电子材料领域刻蚀剂研发经验，深耕湿法化学品（刻蚀液、剥离液、清洗剂等）研发，熟悉显示或半导体工艺；
英语 / 中文沟通能力良好，能独立对接国内客户开展技术交流与产线交付工作。
2. 核心技术要求
精通铜（Cu）、氧化铟锡（ITO）、钼（Mo）等金属 / 氧化物层蚀刻技术，有 BOE（缓冲氧化物蚀刻液）研发经验者优先；
熟练掌握蚀刻液配方设计（如过氧化氢体系、氢氟酸体系），理解抑制剂、添加剂等成分的作用机理，能解决蚀刻偏差、残渣、侧蚀等核心问题；
具备产品中试放大与量产转化经验，熟悉刻蚀剂生产工艺优化、质量检测及稳定性控制；
拥有显示行业头部客户（如 LGD、三星显示等）研发或技术服务经验，有京东方 B10 等高世代产线交付经验者优先。