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日本半导体CMOS传感器专家[中国]
筑波大学高能物理专业本科学历，65岁。1982年进入NEC公司，1997年转职索尼，配属索尼大规模集成电路设计部门，开始研发图像传感器，2008年借调至索尼台湾。2016年转职华为日本，负责成像技术，包括图像传感器和处理算法，各种传感设备和应用，显示设备开发，透镜和光学材料及结构设计，以及智能手机和消费/工业设备及产品的其他相关未来技术开发。2019年转职SK海力士，主导CMOS图像传感器和摄像头AP解决方案方面的研发工作。2022年转职长鑫存储（短期合约），以研究员身份加入设备开发项目。（包括PI、PDK、设备设计和测试）曾作为索尼大学的讲师从2007到2014年间教授系统LSI设计课程中的图像传感器与摄像机信号处理系统科目，为索尼公司培养了大批该领域优秀的工程师。英语可以作为工作语言使用，目前积极寻找中国国内企业的机会，自学中文中。
简历关键词：
索尼
SK海力士
CMOS
研发
核心优势：
日本汽车供应商品质管理专家[中国]
硕士学位，日本电产工作4年，日产汽车工作20年，早期担任ASES新供应商品质评价，主要面向中国供应商进行品质评价及指导。2008年后四年时间派驻东风日产（广州）担任供应商品质保证课长。推动在中国的各种供应商品质指导活动。之后在日产采购部负责供应商体质检查及面向全世界日产员工的监察技术培训。2018年后再次外派到中国襄阳，针对东风汽车的卡车供应商工程品质改善及监察技术进行指导。目前在日产采购部负责供应商品质改善指导工作。中国经历丰富，英文商务水平。
简历关键词：
供应商品质
日产专家
汽车零部件品质
核心优势：
日本半导体器件工艺开发专家[中国]
早稻田大学材料工学专业硕士学历。毕业后在NEC从研发到量产转移全程参与了180nm逻辑工艺的开发，负责工艺流程设计及控制；参与90nm逻辑工艺的开发，负责MOSFET(金氧半场效晶体管)性能提升和工艺优化。2003年加入索尼，负责CMOS图像传感器开发，涉及BSI技术、混合晶圆键合技术及内存堆栈技术；此外还参与40nm节点的开发，通过迁移率增强和栅极堆叠提高MOSFET性能。2018年加入日本影像设计公司（淮安），帮助建立CIS集成设备制造工厂，定义目标设备结构和工艺流程，规划1.12um像素产品。2020年加入思特威公司，在Nexchip(合肥)建立CIS流程及优化，良率品降低原因分析与解决方案，BSI技术优化等工作。拥有多个CMOS及ESD相关专利（美国，日本）及多篇论文发表。英语可作为工作语言使用，目前人在中国。
简历关键词：
索尼
工艺开发
半导体
CMOS
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